トリプルビーム装置を用いたTEM試料作製
エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 BT技術部
要旨：我々は，FIB，アルゴンイオンビーム装置，さらにSEMを統合したトリプルビーム装置を開発した．全てのビームは試料位置に照射可能であり，TEM試料作製の全ての工程をSEMでモニター可能である．そのため，非常に精密な試料位置決めを実現しつつ，ダメージの少ないTEM試料薄片の仕上げが可能である．本装置を用いたTEM試料作製の有効性を，半導体デバイスの断面試料作製の実例を交えながら紹介する．
キーワード：TEM試料作製，アルゴンイオンビーム，ダメージ層