分離照射電子線ホログラフィー

谷垣俊明^ａ,ｂ，会沢真二^ａ，朴賢洵^ｃ，松田強^ｄ，原田研^ｂ，進藤大輔^ａ,ｅ

^ａ（独）理化学研究所創発物性科学研究センター
^ｂ（株）日立製作所中央研究所
^ｃDepartment of Materials Science and Engineering, Dong-A University
^ｄ（独）科学技術振興機構
^ｅ東北大学多元物質科学研究所

要旨：可干渉な電子波を二つに分離し試料面を照射する分離照射電子線ホログラフィーを開発し，これまで困難であった試料エッジから離れた領域の観察や，観察領域から参照波を離した状態でのホログラム観察を可能にした．また，フレネル縞のない分離照射を可能とする二段バイプリズム型分離照射電子線ホログラフィーの開発により高精度電磁場解析を実現し，電子線ホログラフィーの応用範囲を拡張した．開発した手法と応用例を示す．

キーワード：電子線ホログラフィー，分離照射，電磁場解析，フレネル縞

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