顕微鏡 第50巻▶第1号 2015
■最近の研究と技術

X線干渉計を用いたZeffイメージング法の開発

米山明男,馬場理香,竹谷敏,兵藤一行,武田徹

(株)日立製作所中央研究所
(独)産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
高エネルギー加速器研究機構物質構造科学研究所
北里大学医療衛生学部

要旨:結晶X線干渉計を用いて,被写体の平均的な原子番号(実効原子番号:effective atomic number, Zeff)を可視化するZeffイメージング法を新たに開発した.単色放射光を用いてアルミ,鉄,ニッケル,及び銅の各箔を対象とした試用観察を行った結果,各金属の原子番号に対応した濃淡を示す像の取得に成功した.また,ニッケル及び銅のZeff値は誤差5%以内で各原子番号と一致した.

キーワード:X線干渉計,実効原子番号,位相イメージング,吸収イメージング,Zeffイメージング

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