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このたびFIB技術先進システム研究部会では、第5回研究会を12月11日(木)に対面で開催いたします。
【FIB技術先進システム研究会 第5回研究会】
日 時：2025年12月11日 木曜日 12:55 ～ 17:00
場 所：エッサム神田ホール会議室2号館4階 401会議室
研究会テーマ：『FIB加工で導入される表層ダメージ層の特徴と理解』
会 費：顕微鏡学会会員：3,000円、個人非会員：6,000円
参加申込締切：2025年12月5日(金) ※定員が120名に達した時点で締め切ります
【第5回研究会プログラム】
12:30～ 受付
12:55～13:00 開会に際して 大阪大学 杉山 昌章
座長（加藤 丈晴）
13:00～13:35 Ga-FIBやプラズマFIB加工で導入されるダメージ層とArミリング法
東陽テクニカ 鈴木 直久／物質・材料研究機構 原 徹
13:35～14:10 Ga-FIB加工による半導体へのダメージ層導入と
SRIMシミュレーションによるGaイオン注入深さの比較と課題
物質・材料研究機構 埋橋 淳
14:10～14:45 イオンスパッタリング時に導入される格子欠陥層のシミュレーション
北海道大学 坂口 紀史
14:45～15:00 休 憩
座長（完山 正林）
15:00～15:35 クライオFIBで切るやわらかい細胞：ダメージ課題への挑戦
東京大学 松本翔太
15:35～16:10 フェムト秒パルスレーザー加工の原理と事例紹介
ZEISS Japan 小幡 卓眞
16:10～16:25 TEM試料作製時のFIB加工ダメージ層の評価法開発の進捗
大阪大学 杉山 昌章
16:25～16:55 （幹事企業枠）ZEISS -いかにして試料作製の成功に貢献するか-
ZEISS Singapore 前田 悦男
16:55～17:00 総合討論
17:30～20:00 意見交換会（有志）
ブラッスリー セント・ベルナルデュス Brasserie St. Bernardus
参加申込はこちら
上記登録用URL(Forms)にアクセスできない場合は、参加申込フォームをメールで送ってください。
(送付先 NIMS 原 徹、HARA.Toru※nims.go.jp、※を@に変更下さい)
研究会終了後に意見交換会(6,000円)を予定しております。参加希望の方は、
研究会登録用URLから「意見交換会にも参加します」を選んでください。