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今回は電子光学設計の出発点となる「電子源・イオン源」に立ち返って議論します。
安定化、高輝度化を目指して新材料、新原理に基づく電子源・イオン源の開発は継続的に推進されて
いますが、実用化に至るものは僅かと言わざるを得ません。その中で実用化が目前と期待される3件の
開発を取り上げます。開発加速につながる多方面からの議論の場となれば幸いです。
日 時：2023 年8 月7日(月) 14:00-16:00
場 所：リモート開催
定 員：70名
参加費：無料
参加登録：Eメール：yoichi.ose.zp[at]hitachi-hightech.com へお知らせ下さい。
(atを@に変更してください)
締 切：2023年8月2日(水) ※定員70名．定員に達し次第締切ります
■第10回研究会プログラム
(14:00-14:30) 三重大学 永井滋一 「特殊な材料からの電子放出現象の基礎研究」
(14:30-15:00) NIMS Dr. Zhang Han「LaB6ナノワイヤ電子源の製品化」
(15:00-15:30) 日立製作所 森下英郎
「高輝度NEAフォトカソードを電子源とするピコ秒パルスSEMによる時間分解計測」
(15:30-16:00) 日立製作所 松原信一
「ガス電界電離イオン源のイオン種高速切り替え技術とその応用」